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2017.6.26

特許業務法人スズエ国際特許事務所
ニュースレター　No.17-006 
 

【今月の記事】

• 米国：USPTO、AIA特許無効化手続き改正予定/特許訴訟統計
• 台湾：一次審査通知までの期間短縮
• ベトナム：日本特許庁とのPPHプログラム2年目終了
• タイ：修正審査による特許出願審査促進
• 韓国：特許深層面談サービス改善
• インド：特許・意匠・商標に関する2015年及び2016年の年報

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2017.5.26

特許業務法人スズエ国際特許事務所
ニュースレター　No.17-005 
 

【今月の記事】

• 韓国：デザイン保護法改正案公布
• 台湾：新規性喪失例外の猶予期間を12か月に延長、5月1日より施行
• ベトナム：日本と特許審査ハイウエイ試行プログラム開始
• ブラジル：医薬特許出願の重複審査解消
• 米国：/自動運転ＬＩＤＡＲ(光検出・測距)技術に関する特許出願、グーグル社が最多 /米国特許局主席判事、付与後無効化手続きの現状について語る /前特許権者が失効させた特許の復活申請を不正行為と認定 (3D Medical Imaging System, LLC v. Visage Imaging, Inc. et al.) /CAFC、燃料噴射技術特許に関するFord社の地裁勝訴判決を支持

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2017.4.19

特許業務法人スズエ国際特許事務所
ニュースレター　No.17-004
 

【今月の記事】

• 日本：意匠審査基準改訂/商標審査基準改訂
• 中国：商標関連印紙代、大幅な値下げ
• 英国：EU離脱強行、欧州統一特許裁判所に悪影響を及ぼす恐れ
• EPO：部分的サーチレポートに仮見解書を添付するサービスを開始
• 米国：連邦最高裁、特許事件においてラッチェスの抗弁を却下(SCA Hygiene Products Akitiebolag v. First Quality Baby Products, LLC)/Intellectual Property Owners Association(IPO)、特許適格性に関する条文の改正を要望
• ブラジル：日本との特許審査ハイウェイ試行プログラム開始

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2017.3.22

特許業務法人スズエ国際特許事務所
ニュースレター　No.17-003
 

【今月の記事】

• 韓国：2016年改正特許法（2017年3月1日施行）
• シンガポール：特許年金印紙料変更
• インド：改正商標規則発効
• 米国：特許品販売後の使用制限の違反は特許権侵害となるか/P3プログラム再開の可能性
• PCT：出願公開件数、300万件に到達

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2017.2.23

特許業務法人スズエ国際特許事務所
ニュースレター　No.17-002
 

【今月の記事】

• シンガポール：印紙料改定
• EPO：欧州統一特許裁判所(UPC) 2017年12月に開始
• イタリア：欧州統一特許裁判所協定に批准
• 中国：PCT国際特許出願ランキング首位となるも品質問題は解消せず
• 米国：知財政策は特許適格性の問題に注力するようトランプ新大統領に要望書を提出/2016年度USPTO特許統計（前年度比）

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2017.2.1

特許業務法人スズエ国際特許事務所
ニュースレター　No.17-001
 

【今月の記事】

• 中国：最高人民法院、「喬丹」の商標はM・ジョーダン氏の氏名権侵害との判決
• 米国：最高裁、iPhone意匠特許の損害額を棄却・差戻し(Samsung Electronics Co. v. Apple Inc., U.S., No. 15-777, 12/6/16)/USPTO、特許審査時間の変更について意見公募
• EPO：バイオテクノロジー関連発明の手続きを停止/拡大審判部、部分優先権の問題について決定
• インド：商標登録官への著名商標認定申請
• トルコ：知的財産法発効

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2016.12.21

特許業務法人スズエ国際特許事務所
ニュースレター　No.16-012

【今月の記事】

• 英国：欧州統一特許裁判所(UPC)協定批准へ
• 中国：特許審査指南改正草案の概要
• 米国：発明者からのIPR申請に対する判断について上訴却下/AFCP 2.0及びQPIDS試行プログラムの試行期間延長/誘導責任範囲の縮小を求め最高裁に上訴 (Life Techs. corp. v. Promega Corp., U.S. No. 14-1538)
• インドネシア：新商標法の発効

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2016.11.25

特許業務法人スズエ国際特許事務所
ニュースレター　No.16-011

【今月の記事】

• 米国：商標審判部施行規則変更 / 2017年度料金改正案について意見公募
• EPO：譲渡証登録に関する運用変更
• ベルギー：ロンドン・プロトコルは批准せず、新法を施行予定
• インドネシア：印紙代値上げ及び新商標法の施行
• マレーシア：クリアレポート発行後の補正が可能に

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2016.10.21

特許業務法人スズエ国際特許事務所
ニュースレター　No.16-010

【今月の記事】

• ＥＰＯ：調査・審査ガイドライン改訂
• 英国：特許規則改正
• サウジアラビア：GCC商標法の発効
• ブラジル：外国公文書の認証要求を廃止
• 中国：知的財産制度の大幅見直しで権利保護体制強化へ

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2016.09.21

特許業務法人スズエ国際特許事務所
ニュースレター　No.16-009

【今月の記事】

• シンガポール：外国ルート撤廃を延期 / 登録後の補正に関する ガイドライン改正
• インドネシア：特許法改正
• オーストラリア：知財庁手数料改正
• 米国：特許発行前に発生した損害回復の要件 (Rosebud LMS Inc. v. Adobe Sys-tems Inc.) / 特許審判部による申立却下が増加

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2016.08.16

特許業務法人スズエ国際特許事務所
ニュースレター　No.16-008

【今月の記事】

• EPO：実体審査着手前出願取下げ等の場合に審査料全額 返還
• 米国：商標印紙代値上げ(2017年予定) / USPTO、最終拒絶(final rejection)に対する新たなオプションを創設 / CAFC、継続出願の合理的なルールを再確認(Immersion Corp. v. HTC Corp.) / 連邦最高裁、Ariosa v. Sequenom事件の上告を棄却
• シンガポール：コンピュータ利用発明(CII)）の新審査ガイドライン

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2016.07.30

このたび、スズエ国際特許事務所公式ホームページをリニューアルいたしました。

改めてまして、当サイトを通じてあらゆる情報をお伝えしてまいりますので、よろしくお願いいたします。

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2016.07.22

特許業務法人スズエ国際特許事務所
ニュースレター　No.16-007

【今月の記事】

• 英国：EU離脱による影響
• タイ：改正商標法施行による印紙代改定
• インド：早期審査請求の件数に制限
• EPO：異議申立手続改正
• 米国：Halo事件判決以後の3倍賠償を回避するために必要な新たな事前予防策 / 特許出願の猶予期間が始まる「販売」について複数の見解(The Medicines Company v. Hospira, Inc. Fed. Cir., No. 2014-1469)

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